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輝光放電質(zhì)譜是一種分析方法

時間:2022-11-29  來源:hfw.cc  作者: 我要糾錯


輝光放電質(zhì)譜是一種分析方法,使用輝光放電源作為離子源與質(zhì)譜儀連接進行。輝光放電質(zhì)譜在許多學科中得到了重要的應用。由于其直接固體注射,它已成為分析無機固體材料中雜質(zhì)的有力方法,尤其是高純度金屬、合金和其他材料中的雜質(zhì)。 
輝光放電質(zhì)譜原理:輝光放電質(zhì)譜儀由輝光放電離子源和質(zhì)譜儀組成。輝光放電屬于低電壓放電。同時,樣品在GD源中的霧化和電離在兩個不同的區(qū)域進行,即陰極暗區(qū)near樣品表面和陽極附近的負輝光區(qū)域,這也大大降低了基體效應。GD電源的供電方式可分為直流輝光放電(DC-GD)、射頻輝光放電和脈沖輝光放電三種。其中,直流電源使用最為廣泛,另外兩種與質(zhì)譜的結(jié)合仍處于實驗室階段,沒有商用儀器。 
輝光放電質(zhì)譜具有以下特點及功能:直接固態(tài)取樣、離子源電離能力強、高靈敏度和分辨率、測量過程穩(wěn)定、具有良好的再現(xiàn)性和再現(xiàn)性、周期表中幾乎所有元素(C、O、H、N除外)都可以定性或定量分析,輝光放電質(zhì)譜可以直接檢測無機粉末、涂層/基材和非導電材料,無需樣品制備,并提供各種元素的信息; 

輝光放電質(zhì)譜分析的應用: 
1、高純度材料分析 

高分辨率輝光放電質(zhì)譜分析具有較強的干擾去除能力,動態(tài)范圍寬,可實現(xiàn)恒定、痕量和超痕量分析。特別適用于高純度物質(zhì)的分析。 
2、深度分析 

深入分析對研究薄層材料具有重要意義。 
 3、導線材料分析 

直流質(zhì)譜不能直接分析非導電材料。有兩種常用的分析非導電材料的方法:第二陰極法和混合法。第二陰極方法對第二陰極的材料有嚴格的要求。 

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